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簡單說說平面拋光機的拋光原理

來源:新創勝機械  時間:2021-07-28  點擊數: 次

  平面拋光機是在物體表面上的拋光的一種工具,拋光分為粗拋,半精拋,精拋。下面,我們一起來看看平面拋光機的拋光原理吧。

  平面(mian)拋光的作用(yong)是(shi)使工件外面(mian)粗拙度低落,以(yi)獲得光明、平坦外面(mian)。平面(mian)拋光機(ji)其機(ji)理應該(gai)分(fen)別(bie)是(shi)三種結合,因為在平面(mian)拋光機(ji)在工作過(guo)程時會化(hua)學(xue)作用(yong)、機(ji)械(xie)磨削、表面(mian)流動的理論(lun)。
 

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  1、化學作用理論

  在拋光(guang)(guang)(guang)過程(cheng)時,工(gong)件表面(mian)(mian),拋光(guang)(guang)(guang)劑,拋光(guang)(guang)(guang)模和水(shui)的作用(yong)下,發(fa)復雜的化學過程(cheng)。如,光(guang)(guang)(guang)學玻璃表面(mian)(mian)發(fa)生水(shui)解過程(cheng),或者硬脆(cui)性材(cai)料發(fa)生化學腐蝕(shi)過程(cheng)。

  2、機(ji)械磨削理論(lun)

  拋(pao)(pao)(pao)光(guang)是(shi)繼研(yan)(yan)磨之后的(de)(de)(de)工作,其(qi)兩者本質(zhi)相(xiang)關不大。都是(shi)通(tong)過尖硬的(de)(de)(de)磨料顆(ke)粒(li)對(dui)工件(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)進行細(xi)微切(qie)削(xue)(xue)作用的(de)(de)(de)結(jie)果。但拋(pao)(pao)(pao)光(guang)用的(de)(de)(de)磨料對(dui)于研(yan)(yan)磨的(de)(de)(de)磨料顆(ke)粒(li)更加細(xi)微的(de)(de)(de)拋(pao)(pao)(pao)光(guang)劑(ji),微小(xiao)的(de)(de)(de)切(qie)削(xue)(xue)可以在分子大小(xiao)范圍內進行。拋(pao)(pao)(pao)光(guang)模與工件(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)吻合(he)相(xiang)當,拋(pao)(pao)(pao)光(guang)時切(qie)向力較大,從而使工件(jian)(jian)表(biao)(biao)面(mian)(mian)凹(ao)凸的(de)(de)(de)微裂(lie)結(jie)構被磨切(qie)掉,就(jiu)形(xing)成了工件(jian)(jian)光(guang)滑(hua)的(de)(de)(de)表(biao)(biao)面(mian)(mian)。

  3、表面流量理論

  工件(jian)表面(mian)由于高壓和相(xiang)對運動,摩(mo)擦生熱致使(shi)表面(mian)產(chan)生塑性的流動,凸起(qi)部分會凹下(xia)部分填(tian)平,形成光滑的拋光表面(mian)。分別(bie)有(you)兩種理論:

  (1)是根據拋光表面用(yong)金鋼石劃成圖案(an),然(ran)后拋掉,而(er)再用(yong)酸(suan)腐(fu)蝕后圖案(an)劃痕再現(xian)。

  (2)是(shi)由(you)拋(pao)(pao)去(qu)厚度計算的(de)拋(pao)(pao)去(qu)重量(liang)比實測的(de)大得多(duo),于(yu)是(shi)就認(ren)為拋(pao)(pao)光的(de)質量(liang)填到表面凹凸(tu)層的(de)谷(gu)部(bu)。由(you)此說明流動(dong)作用的(de)覆蓋。

  綜上所述,平面拋光機的拋光過程是極其復雜的,至今也沒有完善統一的結論。以上據說的理論化學作用是必須的,而機械理論是基本的,表面流動理論也存在一定的可能性。